产品核心优势

专为高性能镀膜工艺设计的铟颗粒材料，满足最严苛的工艺要求

超高纯度

纯度可达99.99%-99.9999%，杂质含量极低，确保镀膜质量稳定可靠

均匀镀膜

颗粒尺寸均匀，流动性好，可实现均匀连续的薄膜沉积

低熔点特性

熔点仅156.6℃，适合多种镀膜工艺，能耗低，工艺窗口宽

优异抗氧化性

特殊包装处理，减少表面氧化，保证镀膜工艺的稳定性

产品详情

专为高性能镀膜工艺设计的铟颗粒材料，满足最严苛的工艺要求

高纯度铟颗粒 (In)

我们的铟颗粒采用先进的精炼技术和真空封装工艺，确保产品在运输和储存过程中保持最佳状态。专为电子束蒸发、热蒸发和溅射镀膜等工艺设计。

• 纯度：99.99% (4N) 至 99.9999% (6N)

• 颗粒尺寸：1mm - 5mm (可定制)

• 形态：球形/近球形颗粒

• 包装：真空密封，惰性气体保护

• 密度：7.31 g/cm³

• 熔点：156.6℃

技术规格

详细的产品规格参数，满足不同应用场景的需求

应用领域

高纯度铟颗粒在多个高科技领域有广泛应用

• ITO镀膜

  用于制造透明导电薄膜，应用于触摸屏、液晶显示器、太阳能电池等

• 半导体封装

  作为焊接材料和热界面材料，用于芯片封装和散热

• 航空航天

  用于高性能反射镜涂层、热控涂层和传感器制造

• 光伏产业

  CIGS薄膜太阳能电池的关键材料，提高光电转换效率